【專題 | 「光刻機」光刻技術_ASML光刻機_國產光刻機_EUV光刻機】

荷蘭的ASML，是現在光刻機，在現光刻機市場處于壟斷地位。那么這個企業能夠位于現企業第一的原因有哪些呢?

ASML公司發展第一的原因分析

1、飛利浦的研發實力

ASML最開始是飛利浦光刻設備研發小組。1971年開始研發，在1973年就研發了新型光刻設備，最后因為虧損太厲害，成本太高，分拆出來了，但所有的團隊都保留了下來。

荷蘭的ASML，中文翻譯是阿斯麥，這個公司是全球最大的光刻機設備和服務提供商。壟斷了市場80%的份額，在極紫外光(EUV)領域，目前處于壟斷地位。曾經一臺高端設備賣到了1億歐元，據說今年更是賣到了5億歐元。

荷蘭是全球為數不多擁有完整半導體產業鏈的國家，其半導體產業年收益高達百億歐元以上，全球超過四分之一的半導體設備來自荷蘭。

目前世界上最大的光刻機制造商是荷蘭ASML;1984年ASML從飛利浦獨立出來，專門致力于研發光刻技術，得益于近乎完美的德國機械工藝以及世界頂級光學廠商德國蔡司鏡頭，再加上美國提供的光源，ASML迅速發展，到如今占到了全球光刻機總銷售收入的78%;

2、巨大的研發費用

Asml每年將營業收入15%用于研發，2017年研發費用高達97億人民幣，所以越投入技術越強，而競爭對手尼康和佳能都跟不上發展了。

已經有高起點的ASML每年將營業收入15%用于研發，而2017年在光刻機投入研發費用高達約97億人民幣。如今只能仰望ASML的尼康和佳能雖然曾經在光刻機上實力強勁，但是高研發費用也讓這兩家公司犯愁而不得不選擇放棄光刻機高端研發。

而ASML在研發費用上另辟蹊徑，仗著自己無可取代的90%市場份額占有率，降低光刻機的產能來吸引各方投資。使得光刻機的研發過程不會出現資金斷鏈的情況，而投資方也能得到優先購買權。因為研發費用ASML從來不需太過考慮，所以ASML總是在研發路上走得比別人快。

在我國光刻機只能制造出90nm以制程的芯片時，ASML已經制造出7nm以下制程和低于5nm精度工藝的NXT2000i。

3、專注于技術

Aaml處于荷蘭，幾乎沒有上下游產業，所以90號以上的零件向外采購，這樣就可以把精力全部用于研發了。而且核心的研發技術根本不外傳。

技術支持方。比如說剛剛提到了ASML在EUV光刻技術上擁有世界第二的專利申請量，而世界第一是德國的蔡司公司，第三是韓國的海力士公司，而這兩家公司都是ASML的合作伙伴。

ASML在2007年以2.7億美元收購了美國計算光刻領跑者Brion，Brion致力于檢測光刻缺陷及提出相應修正解決方案。2012年ASML又以26億美元收購了世界領先的準分子激光源提供商Cymer，使得新型光刻機極紫外(EUV)研發進度加快。2016年ASML以1000億收購了世界最大的專營電子束檢測技術的HMI，因為HMI可以互補ASML的曝光技術。

這樣一個集多方力量支持又在研發路上漸行漸遠的ASML是很難超越的。如今，中國正在研發28nm制程的光刻機，希望在2019年進口了ASML的EUV光刻機后，中國研發團隊能夠研發出更精進的光刻機，打破ASML獨占高端光刻機的局面。

4，打造上下游利益共同體

Asml要求所有合作伙伴必須投資它，否則就不合作，所以其他廠商比如因特爾，三星，臺積電都有asml股份，也可以分工，這樣asml發展越好，其他廠商也有分成，這樣就綁在了一條船上。

資金方面，ASML有一個非常奇特的規定，那就是只有投資ASML，才能夠獲得優先供貨權，意思就是要求他自己的客戶要先投資自己才行。這樣奇特的合作模式使得ASML獲得了大量的資金，包括英特爾、三星、臺積電、海力士都在ASML中有相當可觀的股份，可以說大半個半導體行業都是ASML一家的合作伙伴，形成了龐大的利益共同體——就算是技術研發出現了失誤，英特爾擠擠牙膏就好了，并不會威脅到ASML的市場占有率。

ASML領先的關鍵轉折點

當光刻技術進入到步進掃描光刻機時代，市場主要由三家巨頭壟斷，分別是ASML、尼康、佳能。

過去步進掃描光刻機通過配置不同的曝光光源，步進掃描技術可支撐不同的工藝技術節點，光源波長經歷了從365nm，到248nm，到193nm。更小波長的光源對光刻機而言意味著更高的分辨率。

到了193nm波長光源要再繼續往下走時，業內當時出現了兩種聲音。大部分企業包括尼康、佳能都選擇研發157nm波長的光源，但是157nm波長的光源遲遲無法商用化。就在這時，臺積電的林本堅提出了193nm浸沒式，通過浸潤式微影技術可以用193納米的光刻鏡頭，用水作為介質，由于水的折射率大于1，進入光阻的波長縮小到了134納米。

最終在2004年，臺積電和ASML共同完成開發了全球第一臺浸潤式微影機臺。隨后，臺積電啟用全世界第一臺193納米“浸潤式微影技術”機臺，正式跨入65nm線寬的生產。這一技術成為此后65、45和32納米線寬制程的主流，推動摩爾定律往前推進了三代。

而在這個技術節點的選擇上，尼康、佳能由于判斷失誤，延續過去技術思路，死磕波長更小的157nm光源未果。這一技術的戰略判斷失誤，不僅意味著過去投入的幾百億資金打水漂了，而且意味著在于ASML的競爭中徹底落敗。結果原先尼康的客戶如因特爾也只能被迫選擇ASML。經此一戰，ASML一舉奠定王者地位，徹底拉開對尼康和佳能的領先優勢。后來臺積電、三星、因特爾擔心ASML的設備會優先供給競爭對手，因此三家一起入股了ASML。而這三家巨頭的投資進一步確定了ASML在光刻機領域的霸主地位，ASML從此再無對手。

在推翻現在ASML的市場壟斷地位的道路上，各國企業也在進行相關的研究，但是基于時間和技術支持有限，現在其他公司和ASML的差距依舊很大。

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